高純鈦靶

名稱：鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦平面靶，鈦旋轉(zhuǎn)靶牌號：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：鈦靶材用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工... 【詳情】

產(chǎn)品名稱：鈦靶材、高純鈦圓靶 牌號：TA1、Ti4N、Ti-Nb 、Zr702、Ni、Gr、Nb1、Nb-Zr10%、Ta1 純度：99.9%-99.99% 規(guī)格：Φ100×40、Φ100×45、Φ95&... 【詳情】

1、產(chǎn)品介紹：鈦是一種耐蝕金屬,其與氧氣反應(yīng)生成穩(wěn)定而致密的氧化膜,該氧化膜在氧化性介質(zhì)、中性介質(zhì)或弱還原性介質(zhì)中穩(wěn)定。因此,在許多介質(zhì)中可直接使用工業(yè)純鈦,或在介質(zhì)... 【詳情】